只是在第一道检测中，通过X射线检测晶体结构时，氧化镓就表现出了远超正常水平的特异。
通常来说，能带宽度与相邻原子电子云叠加值J成正比，晶格常数越大，J越小，能带宽度越小，则禁带宽度越大！
而目前工业界成熟的半导体材料硅的晶格常数是5.43，砷化镓的晶格常数是5.65，但氧化镓的晶格常数直接跳过两位数，来到了三位数，几乎是硅的20倍！
“不用继续检测了，直接通电测数据！”
肖蒙当机立断，这是最简单最快速的检测方式，只是这样可能造成样品的损坏，但她已经迫不及待的想要拿到这块薄片的参数了，反正制备方法他们已经掌握，即便是损坏，也可以再制备一片便是。
“我来！”
刚刚完成几个小时制备的杨驰顾不得疲惫，冲上前去，亲自动手实验。
鄂维南也是快步来到检测室旁，眼中已经有喜色涌动，氧化镓种种不同凡响的表现，似乎已经在谕示着什么了。
很快，在杨驰的操作下，一组组的数据被测量出来。
禁带宽度4.8-4.9eV，远超当前主流半导体硅的1.1eV、碳化硅的3.25eV和氮化镓的3.4eV，
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