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第79章:华夏第一台光刻机,研发成功! (8 / 9)

作者:山野听风 最后更新:2025/7/5 3:15:49
        光束矫正器、能量控制器、光束整形装置、遮光器、掩模板、投影物镜组、曝光台、掩膜台、硅片台、高精度对准工作台、离子注入台等几十台精密设备开始被小心翼翼地组装在一起,每一个步骤都需要高度的专注和精确的操作。

        “好了,开始吧!”

        所有的设备组装完成,接下来就是调试阶段。

        “稳定光速在13.5nm波长,将掩膜版图案与晶圆位置对准误差控制在±1.5nm以内,保持移动速度达1m/s,同时定位精度仍需保持0.5nm...”

        胡立国和冯爱民一边仔细地观察着设备的运行情况,一边大声地喊出调试的要求和参数。

        其他工程师们则根据他们的指令,紧张而有序地进行着调整。

        “这个不行!”

        “再调整一下。”

        “好!”

        “可以把振幅调下一些。”

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