“真的成功了？”
在华科院的实验室里，唐振华瞪大了眼睛，满脸震惊地望着自己的老师冯爱民。
“嗯！”
冯爱民激动的声音微微颤抖，用力地点了点头。
“我看看！”
光刻机，作为一项极其精密且复杂的技术设备，其工作原理是通过将设计好的电路图案投射到硅片表面，巧妙地利用光化学反应来实现纳米级图案的精准转移，这一过程就如同进行超高精度的“照相制版”。
它的核心工艺涵盖了涂胶、曝光、显影、刻蚀等多个精细且关键的步骤，并且必须在超洁净的环境中才能完成，以确保每一个环节都不受外界杂质的干扰。
而光刻机的核心技术更是包括了光源系统、光学系统、机械系统等多个重要部分。
冯爱民和胡立国这两位华科院的顶尖院士，带领着上百位科研人员，投入了近两亿美刀的巨额费用，历经无数个日夜的努力，终于成功研发出了这一具有里程碑意义的设备。
值得一提的是，在这个过程中，唐振华提供了大量珍贵的资料，甚至亲自参与到研发工作中，为项目的顺利推进贡献了巨大的力量。
如果没有他的帮助，想要在如此短的时间内取得这样的成果，几乎是不可能的。
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